手術(shù)室凈化工程的溫度控制，對(duì)于手術(shù)室的溫度，要有一定的控制，然后如何控制溫度，下面是對(duì)手術(shù)室凈化工程溫度控制的說(shuō)明。手術(shù)室裝修流手術(shù)室是采用空氣潔凈技術(shù)對(duì)微生物污染采取程度不同的控制，達(dá)到控制空間環(huán)境中空氣潔凈度適于各類手術(shù)之要求；并提供適宜的溫、濕度，創(chuàng)造一個(gè)潔凈舒適的手術(shù)空間環(huán)境。由于手術(shù)室要嚴(yán)格控制低細(xì)菌數(shù)及低麻醉氣體濃度，所以層流超凈裝置的穩(wěn)定性是層流凈化手術(shù)室的重要驗(yàn)收指標(biāo)。手術(shù)室凈化確保手術(shù)臺(tái)潔凈度達(dá)標(biāo)，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術(shù)室是一個(gè)"正壓"環(huán)境，其空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術(shù)間、無(wú)菌準(zhǔn)備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。

手術(shù)室凈化工程的溫度要求應(yīng)在手術(shù)室凈化工程后列出，但作為一般原則，由于加工精度越來(lái)越高，對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如，在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光過(guò)程中，作為掩模材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)之差越來(lái)越小。直徑為100μm的硅片溫度升高1°，引起0.24μm的線膨脹，必須保持恒定溫度±0.1℃，濕度值一般較低，因?yàn)槌龊购髸?huì)污染產(chǎn)品，特別是不超過(guò)25度的半導(dǎo)體車間。

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